array di wafer-scala di pb ordinato (zr0.2ti0.8) o3 nanodischi e nanorili sono stati fabbricati sull'intera area (10 mm × 10 mm) dell'elettrodo di fondo srruo3 su un substrato srtio3 monocristallino utilizzando la litografia dell'interferenza laser (lil) processo combinato con deposizione laser pulsata. la forma e le dimensioni delle nanostrutture sono state controllate dalla quantità di pzt depositata attraverso i fori modellati e dalla temperatura delle fasi di post-cristallizzazione. la microscopia elettronica a diffrazione e trasmissione a raggi X ha confermato che le nanostrutture pzt ad orientamento (001) sono state coltivate epitassialmente sullo strato di elettrodo di fondo srruo3 (001) che ricopre il substrato monocristallino (001). le strutture di dominio delle nano-isole pzt erano caratterizzate da una reciproca mappatura spaziale utilizzando la radiazione a raggi di sincrotrone. le proprietà ferroelettriche di ciascuna nanostruttura pzt sono state caratterizzate mediante microscopia a forza di scansione in modalità piezoresponse.

fonte: iopscience

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