in questo articolo esaminiamo gli sviluppi della produzione di wafer non polari (cioè piano m e piano piano) e semi-polari (cioè piano 20.1) con metodo ammonotermico. vengono descritti il metodo di crescita e i risultati di lucidatura. siamo riusciti a produrre wafer non- e semi-polari da 26 mm × 26 mm. questi wafer possiedono eccezionali proprietà strutturali e ottiche, con densità di dislocazione della filettatura dell'ordine di 104 cm-3. vengono inoltre presentati studi dettagliati di strati omoepitassiali e di eterostrutture di algan, che mostrano il potenziale di substrati ammonotermici studiati nella fabbricazione di dispositivi optoelettronici.
fonte: iopscience
per ulteriori informazioni, si prega di visitare il nostro sito: http://www.semiconductorwafers.net ,
mandaci una email a angel.ye@powerwaywafer.com o powerwaymaterial@gmail.com .
informazioni sui contatti
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
