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substrati per la deposizione di film di nitruro iii-v

lista dei wafer

substrati per la deposizione di film di nitruro iii-v

2018-02-27

substrati per la deposizione di film di nitruro iii-v

cristallo

struttura

con punto di fusione

densità

reticolo mis-match to gan

dilatazione termica

tecnologia di crescita. . \u0026 Amp; dimensione massima

dimensione standard del supporto (mm)

o c

g / cm 3

(10 -6 /K)

sic

(6h come esempio)

esagonale

~ 2700

3.21

3,5% atori.

10.3

cvd

Ø2 \"x 0.3, Ø3\" x0.3

a = 3.073 Å

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

20x20x0.3,15x15x0.3

c = 15,117 Å

\u0026 EMSP;

O3“

10x10x0.3,5x5x0.3

\u0026 EMSP;

subl.

\u0026 EMSP;

1 lato lucido epi

al 2 o 3

esagonale

2030

3.97

14% atori.

7.5

CZ

Ø50 x 0,33

a = 4,775 Å

\u0026 EMSP;

Ø25 x 0,50

c = 12,99 Å

Ø2”

10x10x0.5

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

1 o 2 lati lucidati

lialo 2

tetragonale

1900 ~

2.62

1,4% atori.

/

CZ

10x10x0.5

a = 5.17 Å

Ø20 mm

1 o 2 lati lucidati

c = 6,26 Å

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

Ligao 2

orthor.

1600

4.18

0,2% atori.

/

CZ

10x10x0.5

a = 5,406 Å

Ø20 mm

1 o 2 lati lucidati

b = 5.012Å

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

c = 6.379 Å

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

MgO

cubo

2852

3.58

3% atori.

12.8

flusso

2 \"x2\" x 0,5 mm, Ø2 \"x 0,5 mm

a = 4.216 Å

\u0026 EMSP;

1 \"x1\" x 0,5 mm, Ø1 \"x 0,5 mm

\u0026 EMSP;

Ø2\"

10 x 10 x 0,5 mm

1 o 2 lati lucidati

milligal 2 o 4

cubo

2130

3.6

9% atori.

7.45

CZ

Ø2 \"x 0,5

a = 8.083 Å

Ø2“

10x10x0.5

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

1 o 2 lati lucidati

ZnO

hexag.

1975

5.605

2,2% atori.

2.9

idrotermale

20x20x0.5

a = 3,332 Å

20 millimetri

1 o 2 lati lucidati

c = 5.213 Å

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

Gan

esagonale

\u0026 EMSP;

6.15

\u0026 EMSP;

5.59

\u0026 EMSP;

10x10x0.475mm

\u0026 EMSP;

\u0026 EMSP;

5x5x0.475mm









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