substrati per la deposizione di film di nitruro iii-v
cristallo
struttura
con punto di fusione
densità
reticolo mis-match to gan
dilatazione termica
tecnologia di crescita. . \u0026 Amp; dimensione massima
dimensione standard del supporto (mm)
o c
g / cm 3
(10 -6 /K)
sic
(6h come esempio)
esagonale
~ 2700
3.21
3,5% atori.
10.3
cvd
Ø2 \"x 0.3, Ø3\" x0.3
a = 3.073 Å
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
20x20x0.3,15x15x0.3
c = 15,117 Å
\u0026 EMSP;
O3“
10x10x0.3,5x5x0.3
\u0026 EMSP;
subl.
\u0026 EMSP;
1 lato lucido epi
al 2 o 3
esagonale
2030
3.97
14% atori.
7.5
CZ
Ø50 x 0,33
a = 4,775 Å
\u0026 EMSP;
Ø25 x 0,50
c = 12,99 Å
Ø2”
10x10x0.5
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
1 o 2 lati lucidati
lialo 2
tetragonale
1900 ~
2.62
1,4% atori.
/
CZ
10x10x0.5
a = 5.17 Å
Ø20 mm
1 o 2 lati lucidati
c = 6,26 Å
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
Ligao 2
orthor.
1600
4.18
0,2% atori.
/
CZ
10x10x0.5
a = 5,406 Å
Ø20 mm
1 o 2 lati lucidati
b = 5.012Å
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
c = 6.379 Å
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
MgO
cubo
2852
3.58
3% atori.
12.8
flusso
2 \"x2\" x 0,5 mm, Ø2 \"x 0,5 mm
a = 4.216 Å
\u0026 EMSP;
1 \"x1\" x 0,5 mm, Ø1 \"x 0,5 mm
\u0026 EMSP;
Ø2\"
10 x 10 x 0,5 mm
1 o 2 lati lucidati
milligal 2 o 4
cubo
2130
3.6
9% atori.
7.45
CZ
Ø2 \"x 0,5
a = 8.083 Å
Ø2“
10x10x0.5
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
1 o 2 lati lucidati
ZnO
hexag.
1975
5.605
2,2% atori.
2.9
idrotermale
20x20x0.5
a = 3,332 Å
20 millimetri
1 o 2 lati lucidati
c = 5.213 Å
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
Gan
esagonale
\u0026 EMSP;
6.15
\u0026 EMSP;
5.59
\u0026 EMSP;
10x10x0.475mm
\u0026 EMSP;
\u0026 EMSP;
5x5x0.475mm