substrati per la deposizione di film di nitruro iii-v
cristallo |
struttura |
con punto di fusione |
densità |
disaccordo reticolato a Gan |
dilatazione termica |
tecnologia di crescita. . \u0026 Amp; dimensione massima |
substrato standard dimensione (mm) |
o c |
g / cm 3 |
(10 -6 /K) |
|||||
sic (6h come esempio) |
esagonale |
~ 2700 |
3.21 |
3,5% atori. |
10.3 |
cvd |
Ø2 \"x 0.3, Ø3\" x0.3 |
a = 3.073 Å |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
20x20x0.3,15x15x0.3 |
||||
c = 15,117 Å |
\u0026 EMSP; |
O3“ |
10x10x0.3,5x5x0.3 |
||||
\u0026 EMSP; |
subl. |
\u0026 EMSP; |
1 lato lucido epi |
||||
al 2 o 3 |
esagonale |
2030 |
3.97 |
14% atori. |
7.5 |
CZ |
Ø50 x 0,33 |
a = 4,775 Å |
\u0026 EMSP; |
Ø25 x 0,50 |
|||||
c = 12,99 Å |
Ø2” |
10x10x0.5 |
|||||
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
1 o 2 lati lucidati |
|||||
lialo 2 |
tetragonale |
1900 ~ |
2.62 |
1,4% atori. |
/ |
CZ |
10x10x0.5 |
a = 5.17 Å |
Ø20 mm |
1 o 2 lati lucidati |
|||||
c = 6,26 Å |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
|||||
Ligao 2 |
orthor. |
1600 |
4.18 |
0,2% atori. |
/ |
CZ |
10x10x0.5 |
a = 5,406 Å |
Ø20 mm |
1 o 2 lati lucidati |
|||||
b = 5.012Å |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
|||||
c = 6.379 Å |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
|||||
MgO |
cubo |
2852 |
3.58 |
3% atori. |
12.8 |
flusso |
2 \"x2\" x 0,5 mm, Ø2 \"x 0,5 mm |
a = 4.216 Å |
\u0026 EMSP; |
1 \"x1\" x 0,5 mm, Ø1 \"x 0,5 mm |
|||||
\u0026 EMSP; |
Ø2\" |
10 x 10 x 0,5 mm |
|||||
1 o 2 lati lucidati |
|||||||
milligal 2 o 4 |
cubo |
2130 |
3.6 |
9% atori. |
7.45 |
CZ |
Ø2 \"x 0,5 |
a = 8.083 Å |
Ø2“ |
10x10x0.5 |
|||||
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
1 o 2 lati lucidati |
|||||
ZnO |
hexag. |
1975 |
5.605 |
2,2% atori. |
2.9 |
idrotermale |
20x20x0.5 |
a = 3,332 Å |
20 millimetri |
1 o 2 lati lucidati |
|||||
c = 5.213 Å |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
|||||
Gan |
esagonale |
\u0026 EMSP; |
6.15 |
\u0026 EMSP; |
5.59 |
\u0026 EMSP; |
10x10x0.475mm |
\u0026 EMSP; |
\u0026 EMSP; |
5x5x0.475mm |