mette in risalto

• sono state valutate le prestazioni di silice colloidale e fanghi a base di ceria su cmp di substrati 6h-sic.

• C'era una differenza significativa nella prestazione di cmh di 6h-sic tra silice e fanghi a base di Ceria.

• per i fanghi a base di ceria, è stato ottenuto un mrr più alto, specialmente in ambiente con forte acidità kmno4.

• il massimo di mrr di silice e di fanghi a base di ceria era rispettivamente di 185 nm / he 1089 nm / h.

sono stati studiati i fanghi colloidali a base di silice e ceria, entrambi utilizzando il kmno4 come ossidante, per la lucidatura meccanica meccanica (cmp) del substrato 6-sic 6 (0 0 0 1), per ottenere un più alto tasso di rimozione del materiale (mrr) e ultra- superficie liscia. i risultati indicano che c'era una differenza significativa nella prestazione di cmh di 6h-sic tra silice e fanghi a base di Ceria. per i fanghi a base di ceria, è stato ottenuto un mrr più elevato, specialmente in ambiente acido forte di kmno4, e il massimo mrr (1089 nm / h) e una superficie più liscia con una rugosità media di 0,11 nm è stata ottenuta usando fanghi contenenti 2% in peso colloidale ceria, 0,05 m kmno4 al ph 2. al contrario, a causa dell'attrazione tra le particelle di silice caricate negative e la superficie positiva caricata al di sotto di ph 5, il massimo mrr di sospensione a base di silice era solo 185 nm / h con rugosità superficiale ra di 0,254 nm utilizzando fanghi contenenti 6% in peso di silice colloidale, 0,05 m kmno4 a pH 6. il meccanismo di lucidatura è stato discusso in base alle misurazioni del potenziale zeta degli abrasivi e all'analisi della spettroscopia fotoelettronica a raggi x (xps) delle superfici levigate.

astratto grafico

c'era una differenza significativa nella prestazione di cmh di 6h-sic tra silice e fanghi a base di Ceria. per i fanghi a base di ceria, un hig

il suo mrr è stato ottenuto, specialmente in ambienti con forte acido kmno4.

parole chiave

meccanico chimico lucidatura (cmp); carburo di silicio (sic); silice; Ceria

fonte: ScienceDirect

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