segnaliamo la generazione di microdiscarica in dispositivi composti da microcristallinidiamante. gli scarichi sono stati generati in strutture di dispositivi con geometrie di scarica a catodi microscopici. una struttura consisteva di un wafer diamantato isolante rivestito con strati diamantati drogati con boro su entrambi i lati. una seconda struttura consisteva in un wafer diamantato isolante rivestito con strati metallici su entrambi i lati. in ciascun caso, un singolo foro sub-millimetrico è stato lavorato attraverso la struttura conduttore-isolatore-conduttore. gli scarichi sono stati generati in un'atmosfera di elio. le tensioni di scarica erano circa 500 v e le correnti di scarica comprese tra 0,1-2,5 ma erano mantenute da una tensione continua di 300 v.

fonte: iopscience

per ulteriori informazioni, si prega di visitare il nostro sito:www.semiconductorwafers.net,

mandaci una email aangel.ye@powerwaywafer.comopowerwaymaterial@gmail.com