CZ-silicio
il silicio monocristallino cz pesantemente / leggermente drogato è adatto alla produzione di vari circuiti integrati (ic), diodi, triodi, pannelli solari a energia verde. gli elementi speciali (come ga, ge) possono essere aggiunti per produrre materiali per celle solari ad alta efficienza, resistenti alle radiazioni e anti-degenerazione per componenti speciali.
cz silicio monocristallino
CZ-silicio
il pesantemente / leggermente drogato cz silicio monocristallino è adatto alla produzione di vari circuiti integrati (ic), diodi, triodi, pannelli solari a energia verde. gli elementi speciali (come ga, ge) possono essere aggiunti per produrre materiali per celle solari ad alta efficienza, resistenti alle radiazioni e anti-degenerazione per componenti speciali.
MCZ
il campo magnetico viene usato nel processo czochralski per produrre il cz silicio monocristallino con le caratteristiche di basso contenuto di ossigeno e alta uniformità di resistività; il MCZ silicio è adatto alla produzione di materiali siliconici per varie ics, dispositivi discreti e batterie solari a bassa ossigeno.
cz cristallo pesantemente drogato
adottando lo speciale dispositivo dopante e il processo cz, il pesantemente drogato (p, sb, as) cz silicio monocristallino può essere prodotto con una resistività molto bassa, viene utilizzato principalmente come materiale di rivestimento per wafer epitassiali e viene utilizzato per produrre dispositivi elettronici speciali per alimentatori di interruttori lsi, diodi schottky e dispositivi elettronici di potenza ad alta frequenza di controllo del campo.
u0026 Lt; 110 u0026 gt; orientamento speciale CZ-silicio
il u0026 lt; 110 u0026 gt; silicio monocristallino ha l'orientamento originale u0026 lt; 110 u0026 gt ;, l'ulteriore elaborazione per la regolazione dell'orientamento non è necessaria; il u0026 lt; 110 u0026 gt; silicio monocristallino ha le caratteristiche di una perfetta struttura cristallina, e basso ossigeno e amp; contenuto di carbonio, è un nuovo materiale di celle solari e può essere utilizzato il materiale cellulare di nuova generazione.
i nostri vantaggi a colpo d'occhio
1.pianta attrezzature di crescita epitassia e attrezzature di prova.
2. offrire la massima qualità con bassa densità dei difetti e buona rugosità superficiale.
3. forte supporto del team di ricerca e supporto tecnologico per i nostri clienti
cz specifiche di silicio monocristallino
|
genere |
tipo di conduzione |
orientamento |
Diametro (mm) |
conducibilità (Ω • cm) |
|
CZ |
n & p |
u0026 Lt; 100 u0026 gt; u0026 lt; 110 u0026 gt; & u0026 lt; 111 u0026 gt; |
76,2-200 |
1-300 |
|
MCZ |
n & p |
u0026 Lt; 100 u0026 gt; u0026 lt; 110 u0026 gt; & u0026 lt; 111 u0026 gt; |
76,2-200 |
1-300 |
|
pesante-doping |
n & p |
u0026 Lt; 100 u0026 gt; u0026 lt; 110 u0026 gt; & u0026 lt; 111 u0026 gt; |
76,2-200 |
,001-1 |
specifiche di wafer
|
u0026 EMSP; |
Diametro (mm) |
spessore (um) |
|
wafer |
76,2-200 |
≥ 160 |
fz-silicio il silicio monocristallino con le caratteristiche di basso contenuto di materiale estraneo, bassa densità di difetti e perfetta struttura cristallina è prodotto con il processo a zona galleggiante; nessun materiale estraneo viene introdotto durante la crescita dei cristalli. la conduttività del silicio-fz è di solito superiore a 1000 Ω-c6
pam-xiamen offre wafer fittizio / wafer di test / wafer di monitoraggio
wafer epitassiale di silicio (epi wafer) è uno strato di silicio monocristallino depositato su un singolo wafer di silicio cristallino (nota: è disponibile per far crescere uno strato di strato di silicio policristallino su un wafer di silicio cristallino altamente drogato, ma necessita strato tampone (come ossido o poli-si) tra il substrato bulk s6
fz wafer lucidati, principalmente per la produzione di raddrizzatore al silicio (sr), raddrizzatore controllato al silicio (scr), transistor gigante (gtr), tiristore (gro)
il wafer di incisione ha le caratteristiche di bassa rugosità, buona lucentezza e costo relativamente basso e sostituisce direttamente il wafer lucido o il wafer epitassiale che ha costi relativamente alti per produrre gli elementi elettronici in alcuni campi, per ridurre i costi. ci sono wafer di bassa rugosità, bassa riflettività e alta riflettiv6
pam-xiamen ha stabilito la tecnologia di produzione per wafer di substrato gan indipendente (nitruro di gallio), che è per uhb-led e ld. cresciuto con tecnologia di epitassia a fase di vapore idruro (hvpe), il nostro substrato gan ha una bassa densità di difetti.
xiamen powerway offre inp wafer - indio fosfuro cresciuti con lec (liquido incapsulato czochralski) o vgf (congelamento gradiente verticale) come Epi-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o ( 100).
offerte pam-xiamen fotomaschere una maschera fotografica è un rivestimento sottile di materiale di mascheratura supportato da un substrato più spesso, e il materiale di mascheratura assorbe la luce a vari gradi e può essere modellato con un design personalizzato. il pattern è usato per modulare la luce e trasferire il pattern attraverso il processo6
informazioni sui contatti
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
