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substrato gan indipendente
pam-xiamen ha stabilito la tecnologia di produzione per wafer di substrato gan indipendente (nitruro di gallio), che è per uhb-led e ld. cresciuto con tecnologia di epitassia a fase di vapore idruro (hvpe), il nostro substrato gan ha una bassa densità di difetti. -
substrato sic
pam-xiamen offre wafer in carburo di silicio a semiconduttore, 6h sic e 4h sic in diversi gradi di qualità per ricercatore e produttori industriali. abbiamo sviluppato la tecnologia di crescita del cristallo sic e la tecnologia di trattamento del cristallo sic sic, ha stabilito una linea di produzione per substrato produttore sic, che viene applicato nel dispositivo gan epitaxy, dispositivi di alimentazione, dispositivo ad alta temperatura e dispositivi optoelettronici. come azienda professionale investita dai principali produttori dei settori avanzati e ricerca materiale high-tech e istituti statali e laboratorio di semiconduttori della Cina, ci dedichiamo continuamente migliorare la qualità dei substrati attuali e sviluppare substrati di grandi dimensioni.hot tag : 4h sic 6h sic sic wafer wafer di carburo di silicio substrato di carburo di silicio prezzo sic wafer
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sic epitaxy
forniamo su misura film sottile personalizzato (carburo di silicio) sicità su substrati 6h o 4h per lo sviluppo di dispositivi in carburo di silicio. sic epi wafer viene utilizzato principalmente per diodi schottky, transistor a effetto di campo a semiconduttore a ossido di metallo, transistor a effetto di campo a giunzione, transistor a giunzione bipolare, tiristori, gto e gate bipolare isolato.hot tag : sic epitaxy deposizione epitassiale wafer epitassiale carburo di silicio diodo sic
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applicazione sic
A causa delle sue proprietà fisiche ed elettroniche, il dispositivo a base di carburo di silicio è adatto per dispositivi elettronici optoelettronici, ad alta temperatura, resistenti alle radiazioni e ad alta potenza / alta frequenza, a confronto con dispositivi basati su si e gaas.hot tag : applicazione sic chip di wafer incisione su wafer proprietà del carburo di silicio mosfet al carburo di silicio
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wafer di gaas (arseniuro di gallio)
pwam sviluppa e produce substrati semiconduttori composti: cristallo di arseniuro di gallio e wafer. Abbiamo utilizzato tecnologie avanzate per la crescita dei cristalli, il congelamento con gradiente verticale (vgf) e il gaas wafer, stabilito una linea di produzione dalla crescita dei cristalli, taglio, molatura alla lavorazione della lucidatura e costruzione una camera pulita di 100 classi per la pulizia e l'imballaggio dei wafer. il nostro gaas wafer include lingotti / wafer da 2 ~ 6 pollici per applicazioni led, ld e microelettronica. Siamo sempre dedicati a migliorare la qualità dei sottostati attuali e sviluppare substrati di grandi dimensioni. -
ge (germanio) singoli cristalli e wafer
pam offre materiali semiconduttori, wafer al germanio monocristallino (ge) cresciuto da vgf / lec -
wafer cdznte (czt)
tellururo di cadmio-zinco (cdznte o czt) è un nuovo semiconduttore, che consente di convertire efficacemente la radiazione in elettrone, è principalmente utilizzato nel substrato di epitassia a film sottile a infrarossi, rilevatori di raggi X e rivelatori di raggi gamma, modulazione ottica laser, alta- celle solari ad alte prestazioni e altri campi ad alta tecnologia.hot tag : CdZnTe rivelatore czt rilevatori di raggi gamma CdTe rivelatore di radiazioni czt substrato cdznte
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silicio monocristallino a zona galleggiante
fz-silicio il silicio monocristallino con le caratteristiche di basso contenuto di materiale estraneo, bassa densità di difetti e perfetta struttura cristallina è prodotto con il processo a zona galleggiante; nessun materiale estraneo viene introdotto durante la crescita dei cristalli. la conduttività del silicio-fz è di solito superiore a 1000 Ω-cm, e il fz-silicio viene utilizzato principalmente per produrre gli elementi ad alta tensione inversa e i dispositivi fotoelettrici.hot tag : zona galleggiante fz silicio processo di zona galleggiante lingotto di silicio wafer di silice produttori di lingotti di silicio
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