xiamen powerway offre wafer gasb - gallio antimonide cresciuto da lec (czochralski liquido incapsulato) come Epi-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100)
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1xiamen powerway offre wafer a base di gas - antimonide di gallio che viene coltivato da lec (czochralski incapsulato liquido) come EPI-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100).
il gallio antimonide (gasb) è un composto semiconduttore di gallio e antimonio della famiglia iii-v. ha una costante reticolare di circa 0,61 nm. gasb può essere utilizzato per i rivelatori a infrarossi, LED e transistor a infrarossi e transistor e sistemi termofotovoltaici.
specifiche di wafer
articolo
specificazioni
diametro del wafer
2" 50,5 ± 0,5 millimetri
3" 76,2 ± 0,4 millimetri
4" 1000,0 ± 0,5 millimetri
orientamento cristallino
(100) ± 0.1 °
spessore
2" 500 ± 25um
3 "625 ± 25um
4" 25um 1000 ±
lunghezza piatta primaria
2" 16 ± 2mm
3" 22 ± 2mm
4" 32,5 ± 2,5 millimetri
lunghezza piatta secondaria
2" 8 ± 1mm
3" 11 ± 1mm
4" 18 ± 1mm
finitura superficiale
p / e, p / p
pacchetto
contenitore singolo wafer pronto per epi o vassoio cf
| specifiche elettriche e antidoping | |||||
| tipo di conduzione | tipo p | tipo p | tipo n | tipo n | tipo n |
| drogante | non drogato | zinco | tellurio | basso tellurio | alto tellurio |
| e.d.p cm -2 | 2" ≤ 2000 3" ≤ 5000 |
2" ≤ 2000 3" ≤ 5000 |
2" , 3" ≤ 1000 4" ≤ 2000 |
2" ≤ 1000 3" , 4" ≤ 2000 |
2, "3", 4" ≤ 500 |
| mobilità cm² v -1 S -1 | ≥500 | 450-200 | 3500-2000 | 3500-2000 | 3500-2000 |
| concentrazione portante cm -3 | ≤ 2 * 10 17 | ≥ 1 * 10 18 | ( 91-900 ) * 10 17 | ≤ 2 * 10 17 |
≥ 5 * 10 17 |
xiamen powerway offre insb wafer - indium antimonide che sono cresciuti da lec (czochralski incapsulato liquido) come EPI-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100).
xiamen powerway offre inp wafer - indio fosfuro cresciuti con lec (liquido incapsulato czochralski) o vgf (congelamento gradiente verticale) come Epi-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o ( 100).
xiamen powerway offre inas wafer - arseniuro di indio cresciuti da lec (czochralski incapsulato liquido) come Epi-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100).
Xiamen powerway offre gap wafer - fosfuro di gallio cresciuto da lec (liquido czochralski incapsulato) come grado epi-ready o meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100).
fz-silicio il silicio monocristallino con le caratteristiche di basso contenuto di materiale estraneo, bassa densità di difetti e perfetta struttura cristallina è prodotto con il processo a zona galleggiante; nessun materiale estraneo viene introdotto durante la crescita dei cristalli. la conduttività del silicio-fz è di solito superiore a 1000 Ω-c6
xiamen powerway offre insb wafer - indium antimonide che sono cresciuti da lec (czochralski incapsulato liquido) come EPI-ready o grado meccanico con n tipo, tipo p o semi-isolante con orientamento diverso (111) o (100).
offerte pam-xiamen fotomaschere una maschera fotografica è un rivestimento sottile di materiale di mascheratura supportato da un substrato più spesso, e il materiale di mascheratura assorbe la luce a vari gradi e può essere modellato con un design personalizzato. il pattern è usato per modulare la luce e trasferire il pattern attraverso il processo6
pwam sviluppa e produce substrati semiconduttori composti: cristallo di arseniuro di gallio e wafer. Abbiamo utilizzato tecnologie avanzate per la crescita dei cristalli, il congelamento con gradiente verticale (vgf) e il gaas wafer, stabilito una linea di produzione dalla crescita dei cristalli, taglio, molatura alla lavorazione della lucidatura e6
informazioni sui contatti
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