array di wafer-scala di pb ordinato (zr0.2ti0.8) o3 nanodischi e nanorili sono stati fabbricati sull'intera area (10 mm × 10 mm) dell'elettrodo di fondo srruo3 su un substrato srtio3 monocristallino utilizzando la litografia dell'interferenza laser (lil) processo combinato con deposizione laser pulsata. la forma e le dimensioni delle nanostrutture sono state controllate dalla quantità di pzt depos...
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